제품소개

PFCs처리설비는 반도체, 디스플레이 제조공정에서 발생하는 온실가스(PFC, HFC, SF6, NF3)를 처리하는 시스템입니다.
제조 공정 발생 온실가스는 습식 또는 건식 식각(Etching) 공정에서 발생합니다. 고농도의 산성가스(HF, HCl), 극초미세먼지(0.1μm)가 포함되어 있습니다.
(주)대양이엔아이는 고온 열분해 및 급속 냉각 기술을 사용하여 분해과정에서 발생하는 부식문제를 해결함으로써 무중단 운전이 가능함을 입증하였습니다. 또한, 급속 냉각 기술로 온실가스 재결합을 원천 방지하여 고효율의 DRE(Destruction Removal Efficiency, 제거효율)를 달성할 수 있습니다.

제품특징

• 난분해성 온실가스를 안정적으로 연속 고효율 제거가 가능합니다.
• 고온 가스를 70℃ 이하로 급속 냉각하여 온실가스 재결합과 2차 오염 물질인 다이옥신 생성을 방지합니다.
• 흑연 재질의 Down comer로 고온부식성가스를 상온일반가스로 전환하여 설비 부식 문제를 해결하였습니다.
• 빠른 연소 속도와 Short Flame Burner를 적용하여 연료와 공기를 순간적으로 혼합함으로써 NOx 발생을 최소화하였습니다.
• 전원 차단 시 Quencher에 물이 차 있어 화재를 방지하며, 공장의 전체 전원이 차단되어도 PFCs 가스 Blower는 UPS 전원 및 독립된 비상전원으로 가동하여 위험없이 안전한 배출이 가능합니다. 또한 Emergency water tank를 구비하여 용수 공급 문제 시 비상 용수를 공급하여 장비를 보호합니다.

공정흐름도

확대

상세관통도

확대

적용분야